光学材料生产用超纯水设备概述：
光学材料生产用超纯水设备包括四个流程：洗涤、漂洗、脱水、干燥。 因为洗涤过程分溶剂清洗和水基清洗，所以有不同的工艺：有行溶剂清洗、溶剂蒸汽干燥再进行水基清洗；也有行溶剂清洗，再用乳化剂溶解溶剂，再进行水基清洗的。利用流水将洗涤后镜片表面的洗剂和污物溶解、排除的过程称为漂洗。

光学材料生产用超纯水设备水质：
手机面板、光学镜片、光学玻璃清洗对超纯水水质要求高，带电力离子和污垢会对镜片产生不可逆损害,终端水质要求≥17.5MΩ*cm（25℃）。

光学材料生产用超纯水设备技术：
光电光学玻璃行业的 超纯水设备主要是为玻璃清洗时给超声波提供超纯水，镀膜玻璃镜片清洗超纯水设备设计上，采用成熟、可靠、自动化程度高的两级RO＋EDI＋SMB除盐水处理工艺，确保处理后的超纯水水质出水电阻率达到18.2 MΩ.cm。关键设备及材料均采用主流可靠产品，采用PLC＋触摸屏控制，全套系统自动化程度高，系统稳定性高。

光学材料生产用超纯水设备标准：
1.研磨是光学玻璃生产中决定其加工效率和表面质量（外观和精度）的重要工序。
2.研磨工序中的主要污染物为研磨粉和沥青，少数企业的加工过程中会有漆片。
3.其中研磨粉的型号各异，一般是以二氧化铈为主的碱金属氧化物。
4.根据镜片的材质及研磨精度不同，选择不同型号的研磨粉。
5.在研磨过程中使用的沥青是起保护作用的，以防止抛光完的镜面被划伤或腐蚀。
6.玻璃研磨过后，需要用超纯水进行产品的清洗，以获得高品质的产品。

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